镀铬工艺
2017-7-20 16:27:05


工艺名称

用途

溶液组成及操作条件

铬前活化剂Chromate AC

铬前阴极电解活化工艺,更有利于套铬,处理后不需水洗,可直接进入光铬镀槽。

Chromate AC    2-3g/L

阴极电流密度  5-50mA/d㎡

装饰铬Chromate 120

六价铬工艺,有极高深镀能力的新型铬添加剂,走位极佳,电流效率高。

Cr03          200-300g/L

Chromate  120A    20ml/L

Chromate  120B    20ml/

PLAS 636          1-2ml/L

硬铬Chromate 126

高电流效率的硬铬电镀工艺,硬度高,光亮度好。

Chromate 126开缸剂   55%(V/V)

PLAS636          0.5-1ml/L

三价白铬CHROMID 320

无铁三价白铬工艺,适用于汽车,电子行业的高耐蚀性要求。

CHROMID 320MS    400g/L

CHROMID320Stabilizer 100ml/L

阴极电流密度     5-10A/d㎡

T:                 22-28℃

PH                2.5-2.8

三价白铬CHROMID 340

三价铬镀白铬工艺,颜色白亮,耐盐雾性能良好。工艺操作简单,控制容易。

CHROMID 340MU  100%(V/V)

阴极电流密度     5-10A/d㎡

T:                 25-28℃

PH                2.0-2.7

三价黑铬CHROMID 360

三价铬镀黑铬工艺,呈美观的蓝黑色,耐蚀性较高,操作简单,控制容易。

CHROMID 360MU  100%(V/V)

阴极电流密度     5-10A/d㎡

T:                 35-45℃

PH                2.0-2.7

三价铬保护剂PRO Cr23

适用于三价铬镀层的电解保护,可显著提高三价铬镀层的CASS试验能力。

PRO Cr23          100ml/L

阴极电流密度   0.2-0.5A/d㎡

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